氮气护航+精准光照:复坦希UVLED解胶机破解半导体晶圆加工难题
在半导体晶圆制造的关键环节中,解胶工艺的稳定性直接影响芯片后续封装质量,而传统解胶设备常因环境氧化、光照不均导致晶圆良率波动。复坦希(北京)电子科技有限公司基于UVLED核心技术,研发的氮气UVLED解胶机,通过惰性气体保护与精准光学控制,为晶圆解胶提供了更可靠的解决方案。
传统晶圆解胶多依赖高温或化学试剂,不仅易造成晶圆热损伤、表面残留,还可能因空气接触引发氧化问题,尤其对化合物半导体等敏感基材影响显著。复坦希氮气UVLED解胶机则以冷光源UVLED技术为核心,无需高温与化学物质,仅通过紫外线触发UV胶膜固化反应,从根源减少对晶圆的损伤,同时规避了化学污染风险。
波长适配性是确保解胶效果的关键,该设备覆盖365nm、385nm、395nm、405nm等常见波段,还可根据不同划片胶膜的光敏特性定制特殊波段大小,确保胶膜能充分响应光照,实现均匀解胶。搭配专业光学设计,设备光照强度稳定,避免了局部解胶不彻底或过度固化的问题,保障晶圆边缘与中心的解胶一致性。
设备的氮气保护系统是其核心优势之一,通过外接氮气并精准控制流量,快速在设备内部营造无氧洁净环境,有效隔绝空气与晶圆表面的接触,防止解胶过程中晶圆氧化。同时,氮气循环风道设计合理,能确保箱内氮气分布均匀,让每一片晶圆都处于稳定的保护氛围中,特别适配对氧化敏感的高端晶圆加工需求。
某从事碳化硅晶圆生产的企业,曾长期受解胶后晶圆表面氧化困扰,导致后续芯片封装时出现键合不良,良率始终难以提升。引入复坦希氮气UVLED解胶机后,借助设备的无氧环境与395nm定制波长,晶圆氧化问题得到解决,芯片键合良率从88%提升至99%,生产稳定性显著提高,该设备也成为其产线核心配套设备之一。
在实际生产中,该设备还具备良好的适配性与易用性,可与生产线无缝对接,支持多尺寸晶圆加工,满足不同量产需求。智能控制系统简化了操作流程,工作人员可快速设置光照参数、氮气流量等关键指标,且设备维护成本低,进口LED灯珠使用寿命长,能长期稳定服务于生产环节。
作为专注UVLED技术的企业,复坦希(北京)电子科技有限公司通过氮气UVLED解胶机,将惰性气体保护与精准光学技术结合,既解决了传统解胶的痛点,又契合了半导体行业对高精度、低损伤加工的需求。未来,复坦希也将持续优化技术,为更多半导体企业提供更高效、稳定的解胶解决方案。